




设备产水量:25T/H
设备产水水质:电阻率≥18MΩ.CM
设备系统工艺:原水箱→原水输送泵→自动砂滤机→自动碳滤机→加药装置→一级反渗透纯水机→中间水箱→PH值调节→二级反渗透→RO储水箱→输送泵→EDI系统→氮封超纯水箱→超纯水恒压变频输送泵→紫外线杀菌器→核能混床→超精密过滤器→用水点
设备产水量:25T/H
设备产水水质:电阻率≥18MΩ.CM
设备系统工艺:原水箱→原水输送泵→自动砂滤机→自动碳滤机→加药装置→一级反渗透纯水机→中间水箱→PH值调节→二级反渗透→RO储水箱→输送泵→EDI系统→氮封超纯水箱→超纯水恒压变频输送泵→紫外线杀菌器→核能混床→超精密过滤器→用水点
超纯水设备是离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂 及选择性树脂膜以加速离子移动去除。在EDI除盐过程中,离子在电场作用下通过离子交换膜被清除。同时,水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子,这些 离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持最佳状态。
超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。超纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备,这是一种制取超纯水的首选工艺,也是一种环保,经济,发展潜力较大的超纯水制备工艺。
在电子工业超纯水设备设计上,通常采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺:UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。 为获得电子光学行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2MΩ•cm)的理论超纯水,在普通EDI超纯水设备后,通常还装设抛光混床进行最终的精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用。抛光混床又称一次性混床,一般情况用在工艺末端,用来进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。